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首页> 外文会议>Pits and pores 4: New materials and applications - in memory of ulrich gosele >Ellipsometry, Reflectometry, and XPS Comparative Studies of Oxidation Effects on Graded Porous Silicon Antireflection Coatings
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Ellipsometry, Reflectometry, and XPS Comparative Studies of Oxidation Effects on Graded Porous Silicon Antireflection Coatings

机译：椭圆光度法，反射光法和XPS对多孔硅减反射涂层氧化作用的比较研究

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Efficient antireflection coatings (ARC) improve the light collection and thereby increase the current output of solar cells. By simple electrochemical etching of the Si wafer, porous silicon (PS) layers with excellent broadband antireflective properties can be fabricated. The close relation between porosity and refractive index, modeled using the Bruggeman effective medium approximation, allows PS multilayers to be tailored to fabricate ARCs optimized for use in solar cells. In this work, the effect of ageing on the reflectance properties of multilayered PS ARCs is studied. The reflectance is correlated to the oxidation of the structures through the use of x-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and spectroscopic ellipsometry (SE). It is found that even after extensive oxidation, very small changes in reflectance are measured.
机译：高效的抗反射涂层（ARC）改善了光的收集，从而增加了太阳能电池的电流输出。通过对硅片进行简单的电化学蚀刻，可以制造出具有出色的宽带抗反射特性的多孔硅（PS）层。使用Bruggeman有效介质近似模型可以模拟孔隙率和折射率之间的紧密关系，从而可以定制PS多层膜，以制造出优化用于太阳能电池的ARC。在这项工作中，研究了老化对多层PS ARC反射特性的影响。通过使用X射线光电子能谱（XPS）和光谱椭偏仪（SE），反射率与结构的氧化相关。发现即使在广泛氧化之后，也可以测量到非常小的反射率变化。

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