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THE NEW PROCESS CONTROL HARDWARE AND ITS EFFECT ON INDUSTRIAL CONTROL OF THE FUTURE

机译：新的过程控制硬件及其对未来工业控制的影响

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来源
《Proceedings of PROMECON/81: process measurement and control conference》|1981年|p.173-186|共14页
会议地点 London(GB);London(GB)
作者
Theodore J. Williams;
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作者单位

Purdue Laboratory for Applied Industrial Control Purdue University- West Lafayette, Indiana 47907, USA;

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会议组织
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类成分分析仪器;
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