首页> 外文会议>2018年第65回応用物理学会春季学術講演会講演予稿集 >アモルファス相を含むSi -Ge系薄膜の熱伝導率測定
【24h】

アモルファス相を含むSi -Ge系薄膜の熱伝導率測定

机译:含非晶相的Si-Ge薄膜的热导率测量

获取原文
获取原文并翻译 | 示例

摘要

シリコンゲルマニウム(Si-Ge)は800℃以上の高温域で高い熱電変換性能を示すことが知られ る実用熱電材料である.我々のグループでは,高い出力因子と低い熱伝導率の両立を目指して, アモルファス相にナノ粒子が分散したSi-Ge系ナノコンポジット材料を薄膜およびバルタで作製 し,その熱電特性の評価を進めている.
机译:硅锗(Si-Ge)是一种实用的热电材料,已知在800°C以上的高温下表现出高热电转换性能。在我们的小组中,我们旨在实现高功率因数和低热导率。我们正在制造其中纳米颗粒分散在薄膜和巴尔塔中的非晶相中的Si-Ge纳米复合材料,并正在评估其热电性能。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号