首页> 外文会议>Silicon photonics and photonic integrated circuits III. >High quality factor dielectric multilayer structures fabricated by rf-sputtering
【24h】

High quality factor dielectric multilayer structures fabricated by rf-sputtering

机译:通过射频溅射制造的高质量因子介电多层结构

获取原文
获取原文并翻译 | 示例

摘要

Rare earth activated 1-D photonic crystals were fabricated by rf-sputtering technique. The cavity is constituted by anEr3+-doped SiO2 active layer inserted between two Bragg reflectors consisting of ten pairs of SiO2/TiO2 layers. SEMmicroscopy is employed
机译:通过射频溅射技术制备了稀土活化的一维光子晶体。该空腔由插入两个由十对SiO2 / TiO2层组成的布拉格反射器之间的掺Er3 +的SiO2活性层构成。使用SEM显微镜

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号