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In-situ reflectivity measurements during pulsed-laser deposition of Bi_2Sr_2CaCu_2O_(8+delta)

机译:Bi_2Sr_2CaCu_2O_(8 + delta)脉冲激光沉积过程中的原位反射率测量

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摘要

Reflectivity measurements have been used to monitor the temporal evolution of the surface morphology during in-situ growth of Bi_2Sr_2CaCu_2O_(8+delta) films on (100)MgO by pulsed-laser deposition (PLD). Two regimes with different surface roughnesses can be distinguished. During deposition of the first few lattice constants reflectivity is shown to be sensitive to changes in deposition temperature near the decomposition limit.
机译:反射率测量已用于通过脉冲激光沉积(PLD)监测Bi_2Sr_2CaCu_2O_(8 +δ)在(100)MgO上原位生长期间表面形貌的时间演变。可以区分具有不同表面粗糙度的两种状态。在前几个晶格常数的沉积过程中,反射率显示出对分解极限附近的沉积温度变化敏感。

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