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首页> 外文会议>World Polymer Congress - 38th Macromolecular IUPAC Symposium (IUPAC MACRO 2000), Jul 9-14, 2000, Warsaw, Poland >Recent Progress of Photo-Resin for Rapid Prototyping, 'Resin for Stereolithography'
【24h】

Recent Progress of Photo-Resin for Rapid Prototyping, 'Resin for Stereolithography'

机译：用于快速成型的光敏树脂的最新进展，“用于光刻的光敏树脂”

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New liquid photo resins, TSR-920, 1920/B, 1971 and 2090X, for rapid prototyping by UV Laser were developed. Hardened TSR-920 shows high HDT with high performance having clear color. This is very useful not only for verification model but also for mechanical parts. Hardened TSR-1920/B is soft and flexible having clear or black color, useful for rubber model with complex shape. TSR-1971 shows high performance very close to super engineering plastics. TSR-2090X shows a particular stability for water, and useful for production part. This is the first example that the fabricated model by the stereolithography is used for the production part.
机译：开发了用于通过UV激光快速成型的新型液态光敏树脂TSR-920、1920 / B，1971和2090X。硬化的TSR-920表现出高HDT和高性能，色泽清晰。这不仅对于验证模型非常有用，对于机械零件也非常有用。硬化的TSR-1920 / B柔软且具有透明或黑色的颜色，适用于形状复杂的橡胶模型。 TSR-1971具有非常接近超级工程塑料的高性能。 TSR-2090X对水具有特别的稳定性，可用于生产零件。这是将立体光刻法制作的模型用于生产零件的第一个示例。

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