芬那酸和烟酸类晶体中分子间弱相互作用的理论研究

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摘 要

Abstract

第一章 绪

1.1 研究背景

1.2 晶体中分子间弱相互作用类型

1.2.1 氢键

1.2.2 卤键

1.2.3 范德华作用

图1.3 卤原子(Cl、Br、I)的负静电势区(δ-)和正静电势区(δ+)

1.2.4 π-π 相互作用

1.3 晶体工程的研究进展

1.4 研究内容和目的

参考文献

第二章 理论计算方法

2.1 量子化学发展历程

2.2 分子间弱相互作用的量子化学计算方法

2.2.1 Hartree-Fock(HF)方法

2.2.2 M?ller-Plesset(MP)方法

2.2.3 密度泛函理论(DFT)方法

2.3 基组重叠误差矫正(BSSE)

2.4 Hirshfeld表面分析分子间弱相互作用

2.4.1 Hirshfeld表面分析概述

Hirshfeld表面分析是一种研究分子间相互作用的新方法，该分析方法在软件CrystalExplo

2.4.2 Hirshfeld表面分析原理

Hirshfeld表面是通过将晶体电子密度划分成分子片段而来确定晶体中分子占据的空间。Hirshfe

(2.15)

2.4.3 一些典型弱相互作用的指纹图

参考文献

第三章 芬那酸晶体中存在两个不对称单元的起因研究

3.1 引言

3.2 理论方法

3.3 结果与讨论

通过对Z'=2的芬那酸晶体以及Z'=1的预测芬那酸晶体分子对的构型比较，表明构象异构体A和B的交替排

3.4总结

参考文献

第四章 Hirshfeld表面分析研究分子晶体中的弱相互作用

4.1 引言

4.2 理论方法

4.3 结果与讨论

4.3.1 烟酸及其衍生物分子晶体结构分析

4.3.2 芬那酸及其衍生物分子晶体结构分析

4.4 总结

参考文献

在学期间的研究成果

致 谢

光阴似箭，日月如梭，三年的学习生涯转瞬即逝。在硕士三年学习期间，国家和学校提供了良好的学习环境，我学

首先，我真诚地感谢周盼盼老师三年来对我的悉心指导和鼓励。周老师对工作认真负责，对科研充满热情，从我论