有机物修饰Si衬底上类金刚石膜的制备及摩擦性能研究

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第一章绪论

1.1类金刚石薄膜概述

1.1.1类金刚石薄膜的组成和分类

1.1.2类金刚石薄膜的制备

1.1.3类金刚石薄膜的表征

1.1.4类金刚石薄膜的性能

1.1.5类金刚石薄膜的应用

1.2本论文的研究工作

1.2.1选题的意义

1.2.2硬盘的结构

1.2.3实验设计和DLC薄膜制备方法的选择

第二章磁过滤阴极弧法制备DLC薄膜

2.1磁过滤阴极弧简介

2.1.1阴极弧简介

2.1.2阴极弧工作的原理

2.1.3宏观离子过滤装置

2.1.4磁过滤阴极弧(FCVA)沉积的特点

2.2实验设计及数据分析

2.2.1有机薄膜的制备

2.2.2 DLC薄膜的制备及其特性分析

第三章微波电子回旋共振等离子体沉积法制备DLC薄膜

3.1微波电子回旋共振等离子体沉积方法简介

3.1.1微波电子回旋共振等离子体源的特点

3.1.2微波电子回旋共振等离子体的基本原理

3.1.3 MW-ECRCVD等离子体技术在材料科学中的应用

3.2本研究所用仪器简要说明

3.2.1微波源系统组成及技术指标

3.2.2微波源工作原理

3.3 DLC薄膜的制备

3.3.1有机薄膜的制备

3.3.1 DLC薄膜的制备

第四章DLC薄膜的结构和性质分析

4.1薄膜的沉积速率

4.2 DLC薄膜的化学结构表征

4.2.1.DLC薄膜的Raman分析

4.2.2.DLC薄膜的XPS分析

4.3 DLC薄膜的摩擦学特性

第五章添加有机过渡层后的DLC薄膜的结构和性质分析

5.1薄膜的化学组分表征

5.1.1 C1s谱分析

5.1.2 Si2p谱分析

5.2薄膜的表面形貌表征

5.3薄膜的摩擦学性能

5.4薄膜的硬度测试

第六章总结与展望

6.1.总结

6.2.展望

参考文献

致谢