基于AFM诱导胶体量子点纳米结构沉积的研究

第一章 绪论

1.1 引言

1.2 量子点纳米结构的应用

1.3 典型制备量子点阵列的方法

1.3.1应力场调制下的自组织生长法

1.3.2图形衬底上选择性的分子束外延法

1.4 AFM在构建半导体量子点阵列中的应用

1.4.1 基于AFM的加工技术

1.4.2 AFM辅助技术诱导制备量子点阵列

1.4.3 AFM辅助诱导制备量子点阵列的研究现状

1.5 本论文研究目的及意义

第二章 理论基础

2.1引言

2.2 AFM机械刻蚀加工机理

2.2.1 AFM工作原理

2.2.2 AFM针尖刻蚀机理分析

2.3 光诱导电化学沉积原理

2.3.1光诱导电极反应动力学

2.4 本章小结

第三章 胶体CdSe量子点的制备及表征

3.1引言

3.2 胶体化学法

3.2.1 胶体化学法制备CdSe量子点的原理

3.2.2 胶体化学法的发展历程

3.3 实验部分

3.3.1实验试剂与仪器设备

3.3.2 CdSe量子点材料的制备及提纯

3.4形貌结构与性能表征

3.4.1 CdSe量子点的X射线衍射表征

3.4.2 CdSe量子点的SEM和TEM表征

3.4.3 CdSe量子点的傅里叶红外光谱

3.4.4 CdSe量子点的吸收与荧光光谱表征

3.5本章小结

4.1引言

4.2 AFM机械刻蚀纳米孔阵列

4.2.1 实验仪器及材料

4.2.2 实验过程

4.3 加工参数对加工结果的影响

4.3.1 加载力

4.3.2 刻蚀速率

4.3.3 循环次数

4.4 纳米孔阵列结构的制备

4.5 皮秒激光诱导沉积制备胶体CdSe量子点阵列

4.5.1皮秒激光诱导微流体电化学沉积法

4.5.2 实验测量装置与测量方法

4.6 结果与讨论

4.7 本章小结

第五章 总结与展望

5.1 研究工作总结

5.2 工作展望

致谢

参考文献

硕士期间参与项目及科研情况

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