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摘要
1 绪论
1．1 引言
1．2石墨烯薄膜简介
1．2．1 石墨烯的晶体结构
1．2．2石墨烯的电子结构
1．2．3石墨烯的电学性质
1．2．4石墨烯的光学性质
1．2．5石墨烯的力学性能
1．2．6石墨烯的热学性能
1．3石墨烯的制备方法
1．3．1机械剥离法
1．3．2液相化学剥离石墨
1．3．3热液相剥离氧化石墨
1．3．4化学气相沉积法
1．3．5外延生长法
1．4研究目的和研究内容
2化学气相沉积制备石墨烯的研究
2．1 等离子体增强化学气相沉积法制备石墨烯
2．1．1 等离子体增强化学气相沉积法制备石墨烯
2．2热化学气相沉积法制备石墨烯
2．2．1 热化学气相沉积法制备石墨烯的原理
2．2．2热化学气相沉积法制备石墨烯的设备
2．3 CVD法制备石墨烯的过程
2．3．1 rf-PECVD法制备石墨烯的过程
2．3．2 TCVD法制备石墨烯的过程
2．4石墨烯的转移过程
2．5石墨烯的表征手段
2．5．1 扫描电子显微镜(SEM)
2．5．2透射电子显微镜(TEM)
2．5．3拉曼光谱仪(Raman Spectrum)
3等离子体增强化学气相沉积制备石墨烯薄膜
3．1 引言
3．2生长温度对rf-PECVD石墨烯生长的影响
3．2．1 不同生长温度下石墨烯的拉曼光谱
3．2．2不同生长温度下石墨烯的表面形貌
3．3氢气甲烷比例对石墨烯生长的影响
3．3．1 不同氢气甲烷流量比例下石墨烯的拉曼光谱
3．3．2不同氢气甲烷流量比例下石墨烯的表面形貌
3．4射频功率对石墨烯生长的影响
3．4．1 不同射频功率下石墨烯拉曼光谱
3．4．2不同射频功率下石墨烯的表面形貌
3．4．3石墨烯的透射电子显微镜
3．5本章小结
4热化学气相沉积制备石墨烯薄膜
4．1 引言
4．2生长温度对石墨烯薄膜质量的影响
4．2．1 不同生长温度下石墨烯的拉曼光谱
4．3氢气流量对石墨烯薄膜质量的影响
4．3．1 不同氢气流量下石墨烯的拉曼光谱
4．4生长时间对石墨烯薄膜质量的影响
4．4．1 不同生长时间下石墨烯的拉曼光谱
4．5单层和双层石墨烯薄膜的原子力显微镜表征
4．6单层和双层石墨烯薄膜拉曼光谱研究
4．6．1 不同激光功率对石墨烯拉曼光谱的影响
4．6．2不同激发能量对石墨烯拉曼光谱的影响
4．7单层石墨烯的拉曼光谱分析
4．7．1 单层石墨烯在不同衬底上的拉曼光谱
4．7．2单层石墨烯在不同衬底上的拉曼mapping光谱
4．8双层石墨烯的拉曼光谱分析
4．8．1 单双层石墨烯的拉曼光谱
4．8．2双层石墨烯在不同衬底上的拉曼光谱
4．8．3双层石墨烯在不同衬底上的拉曼mapping光谱
4．9本章小结
5碳质基底制备三维石墨烯
5．1 引言
5．2生长温度对三维薄膜生长的影响
5．2．1 不同生长温度下石墨烯的表面形貌
5．2．2不同生长温度下石墨烯的拉曼光谱
5．3生长时间对三维石墨烯生长的影响
5．3．1 不同生长时间下石墨烯的表面形貌
5．3．2拉曼光谱分析
5．3．3 XRD结构分析
5．4本章小结
6总结与展望
6．1 结论
6．2 展望
参考文献
个人简历
致谢
