面向曲面基底微光学元件加工的纳米压印设备的研究

摘 要

Abstract

第1章 绪论

1.1 课题研究的背景和意义

1.2 国内外相关研究的发展现状

1.2.1 纳米压印工艺的发展

1.2.2 压印设备

1.3 本文的主要研究内容

第2章 纳米压印设备的总体方案与机械设计

2.1 纳米压印设备的总体性能指标

2.2 压印过程及总体结构设计

2.2.1 压印过程

2.2.2 机械结构总体设计

2.2.3 柔性压印头的结构设计

2.2.4 柔性微结构压模的设计

2.2.5 承载台的结构设计

2.3 紫外固化光源与压印胶

2.4 本章小结

第3章 纳米压印系统的硬件设计

3.1 硬件总体结构设计

3.2 温度控制系统硬件设计

3.2.1 温度控制系统的总体方案

3.2.2 温度控制系统器件的选择

3.3 压力控制系统硬件设计

3.3.1 气动伺服控制系统基本原理

3.3.2 压力控制系统硬件方案设计

3.3.3 基于电磁阀的伺服控制系统分析

3.3.4 PWM气动控制方式

3.3.5 压力控制系统元件选取

3.4 紫外曝光系统硬件设计

3.5 本章小结

第4章 纳米压印系统的软件设计

4.1 控制系统软件主体设计

4.2 上位机软件设计

4.3 温度控制系统软件设计

4.3.1 PID控制原理

4.3.2 温度控制位置式PID控制算法

4.3.3 温度处理的拟合算法

4.4 压力控制系统的软件设计

4.5 本章小结

第5章 实验结果及分析

5.1 温控系统性能测试

5.1.1 升温速度实验

5.1.2 稳态温度控制精度实验

5.2 压力控制实验

5.2.1 压力均匀性实验

5.2.2 压力控制稳定性实验

5.3 微结构图案复制实验

5.3.1 热压印实验

5.3.2 紫外纳米压印实验

5.4 本章小结

结论

参考文献

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致 谢