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第1章绪论
1.1研究的目的和意义
1.2纳米材料的发展历史和研究热点
1.3纳米材料的性质
1.3.1纳米粒子的基本性质
1.3.2纳米材料的特殊性质
1.4半导体硫化镉纳米膜的研究与应用前景
1.4.1硫化镉纳米膜的制备
1.4.2硫化镉纳米膜的性能
1.4.3硫化镉纳米膜的应用前景
1.5金属银纳米膜的研究与应用前景
1.5.1银纳米膜的制备方法
1.5.2银纳米膜的性能
1.5.3银纳米膜的应用前景
1.6课题主要研究内容
第2章实验材料与实验方法
2.1材料、仪器与装置
2.1.1实验材料
2.1.2实验仪器
2.1.3实验装置
2.2实验方法
2.2.1纳米膜制备工艺流程
2.2.2纳米膜的制备
2.3纳米膜的结构性能表征方法
2.3.1纳米膜形貌的观察
2.3.2纳米膜的化学组成分析
2.3.3纳米膜结构分析
2.3.4光学性能测试
2.3.5电化学测试
第3章电沉积法制备硫化镉纳米膜的工艺研究
3.1表面活性剂对电沉积硫化镉纳米膜的影响
3.1.1电解液表面不铺展表面活性剂时的电沉积
3.1.2表面活性剂体系的确定
3.1.3表面活性剂种类对电沉积纳米膜的影响
3.1.4表面活性剂用量对电沉积纳米膜的影响
3.2电沉积制备CdS纳米膜的影响因素
3.3电解液组成及工艺条件对电沉积CdS纳米膜的影响
3.3.1电解液浓度对电沉积CdS纳米膜的影响
3.3.2温度对电沉积CdS纳米膜的影响
3.3.3 pH值对电沉积CdS纳米膜的影响
3.3.4槽压对电沉积CdS纳米膜的影响
3.3.5电解液组成对电沉积CdS纳米膜的影响
3.4CdS纳米膜的物相分析
3.4.1电子衍射(ED)
3.4.2 XRD分析
3.5 CdS纳米膜的表观形貌
3.6本章小结
附图
第4章电沉积法制备银纳米膜的工艺研究
4.1表面活性剂对电沉积银纳米膜的影响
4.2电解液体系的确定
4.3电沉积工艺条件对银纳米膜的影响
4.3.1电解液浓度对电沉积银纳米膜的影响
4.3.2槽压对电沉积银纳米膜的影响
4.3.3 pH值对电沉积银纳米膜的影响
4.3.4温度对电沉积银纳米膜的影响
4.4银纳米膜中银原子的化学状态
4.5银纳米膜的X射线衍射峰宽化特性
4.6本章小结
第5章硫化镉及银纳米膜的光学性能
5.1线性光学常数
5.1.1理论分析
5.1.2硫化镉纳米膜的厚度和光学常数
5.1.3银纳米膜的厚度和光学常数
5.2非线性光学常数
5.2.1 Z扫描测量的物理机制
5.2.2纳米膜的非线性光学常数
5.3纳米膜对光的吸收与光致发光
5.3.1原理分析
5.3.2纳米膜的光吸收特性
5.3.3CdS纳米膜的光致发光特性
5.3.4硫化镉纳米膜电极的光电性能
5.4纳米膜的电性能
5.5本章小结
第6章硫化镉纳米膜的电沉积行为研究
6.1硫化镉形成的电极过程
6.2纳米膜在表面活性剂下的形成行为
6.3晶体生长速率对纳米膜晶粒的影响
6.4硫化镉立方相和六方相共生的行为
6.5硫化镉纳米膜的形成过程分析
6.6本章小结
结论
参考文献
攻读博士期间发表的学术论文
哈尔滨工业大学博士学位论文原创性声明和哈尔滨工业大学博士学位论文使用授权书
致谢
个人简历
