声明
1 绪论
1.1 引言
1.2电子衍射基本原理
1.2.1 电子波长的计算
1.2.2 衍射方程
1.2.3 晶格的结构因子
1.2.4 晶格结构变化与其对应的衍射峰变化
1.3平均场理论
1.4 UED的研究现状及应用
1.4.1 UED系统在国外的发展现状
1.4.2 UED系统在国内的发展现状
1.4.3 UED技术的应用
1.5本文的内容及安排
2 多模式超快电子衍射系统的布局、原理与组成
2.1泵浦-探测技术
2.2多模式UED实验布局与原理
2.3多模式UED系统组成
2.3.1 超高真空系统
2.3.2 光学系统
2.3.3 会聚束飞秒电子源
2.3.4 成像系统
2.3.5 五维调节样品系统
2.3.6 其他部件
2.4本章小结
3 飞秒电子束传播特性研究
3.1激励飞秒电子脉冲产生的紫外光
3.2电子脉冲稳定性测试
3.3电子束脉冲束斑直径的测量
3.3.1 电子源厂商的束斑模拟结果
3.3.2 探测器上的束斑大小
3.3.3 样品处的束斑大小
3.4时间零点的获取
3.5本章小结
4 飞秒电子束特性对衍射图样的影响分析
4.1引言
4.2实验条件
4.3铝薄膜的衍射图样分析
4.4硒化锑(Sb2Se3)薄膜样品的静态衍射图样
4.5本章小结
5 总结与展望
5.1工作总结
5.2展望
致谢
参考文献
