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NbCN、NbSiN复合膜和NbSiN/VN多层膜的微结构和性能研究

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Contents

第1章 绪 论

1.1 引言

1.2 薄膜的制备方法

1.3 纳米复合膜

1.4 纳米多层膜

1.5 摩擦磨损的理论基础

1.6选题意义与研究内容

第2章 薄膜的制备与表征

2.1 引言

2.2 磁控溅射镀膜原理与实验设备

2.3薄膜的检测方法和检测设备

第3 章 磁控溅射NbCN复合膜的微结构和性能

3.1 前言

3.2实验过程及材料

3.3实验结果及讨论

3.4 本章小结

第4章 磁控溅射NbSiN复合膜的微结构和性能

4.1 引言

4.2实验材料及方法

4.3实验结果及讨论

4.4本章小结

第5章 磁控溅射NbSiN/VN多层膜的微结构和性能

5.1引言

5.2 实验材料及方法

5.3实验结果与分析

5.4本章小结

结论和展望

参考文献

攻读硕士学位期间所发表的学术论文

致谢

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摘要

本论文采用反应磁控溅射制备了NbCN复合膜、NbSiN复合膜以及NbSiNN/VN纳米多层膜。采用EDS、X射线衍射仪、纳米压痕仪、高温摩擦磨损仪表征了薄膜的成分、微结构、硬度以及室温和高温摩擦磨损性能。研究了C靶功率对NbCN复合膜的微结构、力学性能以及摩擦磨损性能的影响;Si含量对NbSiN复合膜的微结构、力学性能和室温及高温摩擦磨损性能的影响;并研究了不同VN膜层厚度对NbSiN/VN多层膜结构、力学性能和室温及高温摩擦磨损性能的影响,讨论了多层膜的致硬机理和磨损机制。
  研究表明:
  NbCN复合膜为面心立方结构,呈NbN(200)择优取向;C的加入,使薄膜的力学性能得到改善,随着C靶功率的增加,复合膜的硬度先增大后减小,在C靶功率增加到90 W时,NbCN复合膜的硬度达到最大值,为30.3GPa;室温摩擦磨损实验结果表明,随着C靶功率的增加,NbCN复合膜的摩擦系数逐渐降低,当C靶功率增加到120W时,摩擦系数降至最低为0.323。
  NbSiN复合膜为面心立方结构,呈NbN(200)择优取向;少量Si的加入使得复合膜得到强化,在Si含量为20.29 at.%时硬度达到最大值32.1GPa,随着Si含量的进一步增加,复合膜的硬度逐步降低。室温和高温摩擦磨损研究表明,在室温时,随着Si含量的增加,NbSiN复合膜的平均摩擦系数在0.60~0.68之间波动;在650℃时,随着Si含量的增加,复合膜的平均摩擦系数呈减小趋势;650℃时的平均摩擦系数低于室温下的平均摩擦系数与氧化物的生成有关。
  在NbSiN/VN多层膜中,随着VN膜层厚度增加,多层膜由V2N(110)择优取向转变为VN(111)择优取向。在VN膜层厚度为5 nm时,硬度达到最大值,为26.1 GPa。摩擦磨损性能的研究表面,在室温和高温时,随着VN膜层厚度的增加,多层膜的摩擦系数均呈减小趋势。室温时,在VN膜层厚度增加到5 nm时平均摩擦系数最低为0.386;高温650℃时, VN膜层厚度为10 nm,多层膜平均摩擦系数最低为0.289;高温时平均摩擦系数降低与自润滑性V2O5的生成有关。

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