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黑硅与黑硅太阳电池的制备与性能研究

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第一章 绪论

1.1 太阳电池研究意义

1.2太阳电池发展状况简介

1.3 晶体硅太阳电池简介

1.4 黑硅及黑硅太阳电池简介

1.5 本文的研究内容

第二章 实验方法、性能表征技术及原理

2.1 主要实验设备及原料

2.2 实验方法

2.3 表征设备及原理

第三章 反应离子刻蚀法制备的单晶黑硅及其性能研究

3.1 引言

3.2 制备工艺

3.3 不同刻蚀功率制备的黑硅

3.4 不同 26 OFSF/F 制备的黑硅

3.5不同刻蚀时间制备的黑硅

3.6 本章小结

第四章 Ni辅助化学腐蚀法制备的单晶黑硅及其性能研究

4.1 前言

4.2 Ni辅助化学腐蚀法制备黑硅的工艺

4.3 不同溅射时间制备的Ni纳米颗粒

4.4 不同腐蚀温度制备的黑硅

4.5 不同H2O2浓度制备的黑硅

4.6不同腐蚀时间制备的黑硅

4.7 Ni辅助化学腐蚀法制备黑硅的机理

4.8 本章小结

第五章 Ag辅助化学腐蚀法制备的单晶黑硅及其性能研究

5.1 引言

5.2 制备工艺

5.3 不同Ag沉积时间制备的黑硅

5.4 不同H2O2浓度制备的黑硅

5.5 不同腐蚀温度制备的黑硅

5.6 不同腐蚀时间制备的黑硅

5.7 AgNO3/HF/H2O2体系一步法工艺制备的单晶黑硅

5.8 本章小结

第六章 Ag辅助化学腐蚀法制备的大面积多晶黑硅太阳电池及其性能研究

6.1 引言

6.2 Ag辅助化学腐蚀法制备多晶黑硅的工艺

6.3 不同NaOH扩孔时间制备的多晶黑硅

6.4 Ag辅助化学腐蚀法制备的多晶黑硅太阳电池

6.5 本章小结

第七章 结论与展望

7.1 结论

7.2 本文主要创新点

7.3 展望

参考文献

致谢

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摘要

众所周知,在当前光伏市场中,晶体硅太阳电池仍然占据着绝大部分份额。随着人类需求的增加,人们对晶体硅太阳电池光电转换效率的要求也越来越高。在众多提高太阳电池转换效率的方法中,降低硅片表面反射率是一种非常有效的方式,于是出现了黑硅这个概念。黑硅是一种在紫外至近红外波长范围内都具有极低反射率的材料,正是黑硅的这个特性使得其吸引了业界广泛的关注,同时黑硅的制备方法和性能也成为领域内的研究热点。
  本论文首先采用SF6和O2作为反应气体,通过反应离子刻蚀(Reactive ion etching, RIE)法在已制备金字塔的单晶硅表面上制备了黑硅结构。相对于现有的RIE工艺,本实验是在室温、不加脉冲偏压且没有掩膜的情况下进行的,研究了不同刻蚀参数对黑硅性能的影响规律,并结合 RIE法制备黑硅结构的机理对所得实验结果进行了分析。研究结果表明,刻蚀功率、SF6和O2流量比(26 OFSF/F)以及刻蚀时间对所制备的黑硅的结构形貌、表面反射率以及少子寿命有着非常重要的影响。最终在刻蚀功率为150W、26 OFSF/F为18sccm/6sccm和刻蚀时间为20min的条件下制备出了在400-900nm范围内表面反射率为4.94%的单晶黑硅样品,同时该样品的少子寿命为8μs。
  但是,RIE法制备黑硅时需要在真空环境中进行,且RIE设备昂贵,制备周期长,所以该方法不是很适合低成本产业化生产。本文选用了工艺简单、制备周期短和低成本的金属辅助化学腐蚀(Metal-assisted chemical etching, MACE)法。在现有的MACE法中所采用的辅助金属都属于贵金属,如铂(Pt)和金(Au)等。因此,本文采用更廉价的金属Ni来作为辅助金属,研究了不同工艺参数对所制备的黑硅性能的影响,同时结合实验结果分析了Ni辅助化学腐蚀法制备黑硅结构的原理。研究结果表明,腐蚀温度、腐蚀液中 H2O2浓度和腐蚀时间对黑硅的结构形貌、表面反射率和光致发光性能有着非常重要的影响,经过优化工艺参数,我们制备出了表面反射率为1.59%(400-900nm)的单晶黑硅。同时,由于Ni的电负性只有1.91,只比Si(1.90)大0.01,因此,在Ni辅助化学腐蚀硅的过程中,Ni纳米颗粒从Si中得电子的速度小于腐蚀液从Ni中得电子的速度,致使Ni本身的电子被夺去,最终导致Ni纳米颗粒在辅助腐蚀过程中消失。而Pt(2.28)和Au(2.54)的电负性比Si(1.90)大更多,因此Pt和Au从Si中得电子的速度要比Ni从Si中得电子的速度快,从而可以保证自身的电子不会失去。另外,结合实验结果可以分析出,Ni辅助化学腐蚀法制备黑硅结构的过程中,其腐蚀方向倾向于<111>方向。
  由于上述 Ni纳米颗粒是采用磁控溅射法制备的,为了降低制备成本,本文尝试了采用化学法在硅片表面制备Ni纳米颗粒。但发现化学法制备的Ni极易成膜,很难形成纳米颗粒分布在硅片表面,且其与硅片的接触不是很好,导致后期腐蚀过程中Ni膜直接脱落,无法进行辅助腐蚀。因此,本着低成本产业化的目的,本文采用全化学法的 Ag辅助化学腐蚀法制备了单晶黑硅结构,研究了不同工艺参数对黑硅性能的影响规律。实验结果表明,Ag颗粒沉积时间、腐蚀液中 H2O2浓度、腐蚀温度和腐蚀时间对样品的结构形貌、表面反射率、光致发光性能有着极其重要的影响,并结合实验结果分析了不同腐蚀深度和不同腐蚀孔径的硅纳米结构的减反射原理。最终经过工艺参数的优化,制备出了在400nm至900nm波长范围内平均反射率为0.98%的单晶黑硅,且发现 Ag纳米颗粒优先在金字塔的顶端和四条棱边处形核和长大。为了进一步降低成本和简化工艺,本文采用一步腐蚀法并将 AgNO3浓度降低为原来1/200,最终制备了400nm至900nm范围内表面反射率为1.11%的黑硅结构。
  目前光伏市场上主要以多晶硅太阳电池为主,主要原因是其价格相对单晶硅较便宜。同时,在表面反射率方面,制绒后的单晶硅为13%,沉积完SiNx减反射膜后仅为4%,而制绒后的多晶硅的表面反射率则大于20%,沉积完SiNx减反射膜后仍有10%。因此,多晶硅的表面反射率的可降低空间更大,又由于其价格相对较便宜,所以本文采用全化学法的 Ag辅助化学腐蚀法来制备多晶黑硅结构,同时,在 Ag辅助化学腐蚀法制备黑硅电池的工艺中,由于该工艺制备的腐蚀孔洞的孔径偏小,以至于后期PECVD法沉积的SiNx薄膜不能完全沉积到腐蚀孔洞底部,致使腐蚀孔洞底部出现大量的裸硅表面,最终导致光生载流子在此处被复合。因此,本文采用稀释的NaOH溶液对多晶黑硅表面进行扩孔处理,以便于腐蚀孔洞底部能被彻底钝化。研究了NaOH扩孔时间对所制备的黑硅结构形貌以及光学性能的影响规律,最终采用Ag辅助化学腐蚀法制备的多晶黑硅作为衬底硅片制备了最高光电转换效率为18.03%的多晶黑硅太阳电池,其Voc、Jsc和FF分别为632mV、36.08mA/cm2和79.07%,该效率比传统的酸制绒多晶硅太阳电池要高0.64%。

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