声明
摘要
1绪论
1．1研究目的及意义
1．2分子印迹技术概述
1．2．1分子印迹技术概述
1．2．2分子印迹聚合物制备原理和过程
1．3分子印迹技术分类
1．3．1共价法
1．3．2非共价法
1．3．3半供价法
1．4分子印迹聚合物的制备方法
1．4．1包埋法
1．4．2表面印迹法
1．5分子印迹聚合物的应用
1．5．1传感器
1．5．2固相萃取
1．5．3模拟酶催化
1．5．4爆炸物检测
1．6本课题的研究内容
2沉淀聚合法制备TNT分子印迹微球及其应用
2．1引言
2．2实验部分
2．2．1实验试剂与仪器
2．2．2 TNT分子印迹聚合物微球的制备
2．2．3聚合物吸附性能研究
2．3结果与讨论
2．3．1沉淀聚合原理
2．3．2 TNT与AM相互作用表征
2．3．3聚合物的红外表征
2．3．4不同制备条件对印迹微球表面形貌的影响
2．3．5聚合物的吸附性能
2．4本章小结
3基于改性二氧化硅表面修饰的TNT分子印迹聚合物的制备与应用
3．1前言
3．2实验部分
3．2．1实验试剂与仪器
3．2．2二氧化硅的合成
3．2．3改性二氧化硅
3．2．4分子印迹聚合物的制备
3．2．5吸附实验
3．3结果与讨论
3．3．1聚合物制备
3．3．2聚合物的表征
3．3．3聚合物的吸附性能
3．4本章小结
4磁性TNT分子印迹聚合物的制备与应用
4．1引言
4．2实验部分
4．2．1仪器与试剂
4．2．2氨基改性四氧化三铁
4．2．3 Fe3O4表面分子印迹聚合物的合成
4．2．4吸附实验
4．3结果与讨论
4．3．2磁性纳米粒子的表征
4．3．3聚合物的吸附性能
4．4本章小结
5结论与展望
5．1结论
5．2不足和展望
致谢
参考文献
附录
