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张悦;
苏州大学;
靶材; 甚高频; 磁控溅射; 离子;
机译:磁控溅射Al2O3陶瓷靶材在不同的射频功率和氩压下通过磁控溅射沉积的Al2O3薄膜的主要性能及其对p型c-Si晶片的钝化作用
机译:两种阴极靶材在磁控溅射中的等离子体特性模拟
机译:辅助射频等离子体对射频磁控溅射SiC靶材制备SiCN薄膜的结构和性能的影响
机译:Zn靶材优化射频磁控溅射等离子体
机译:磁控溅射薄膜涂层材料特性及摩擦学性能研究
机译:磁控溅射聚合物靶材:从薄膜到非均质金属/等离子聚合物纳米颗粒
机译:磁控溅射与电感耦合等离子体辅助磁控溅射对纸基板上Cu膜性能的影响。电感耦合等离子体辅助
机译:用于制造pBFa(粒子束融合加速器)II加速器离子源的可移动后阴极磁控溅射系统的设计和性能
机译:使用磁控溅射法用透明金属氧化物层涂覆基板的方法包括将用于溅射的等离子体引导到涂覆区域中的溅射靶材上
机译:用于通过磁控管的靶涂覆基板的反应磁控溅射,包括:将与磁控管相对的基板布置;通过溅射雾化靶材料;以及将溅射的靶材料沉积到基板上
机译:能够有效地在室温下在基板上沉积靶材的磁控溅射装置和磁控溅射沉积系统
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