0.5微米掩模制造曝光及显影工艺改进

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第1章绪论

1.1掩模概论

1.1.1掩模的概念

1.1.2掩模缺陷的概念

1.1.3掩模制造主要工艺及原理

1.2掩模发展概况

1.3本文研究内容

1.4本文结构

第2章当前工艺状况分析及改进方向提出

2.1工艺状况分析

2.1.1当前工艺问题统计

2.1.2缺陷形成工艺定位

2.2缺陷成因分析

2.3工艺改进方向

2.4本章小结

第3章工艺改进方案研究

3.1曝光剂量精细化控制

3.1.1精细化控制思想

3.1.2曝光图形区域细分

3.1.3区域曝光剂量设置

3.2显影工艺改进

3.2.1烘烤工艺改进研究

3.2.2曝光对显影工艺影响改进

3.2.3曝光与显影间隔时间改进

3.2.4显影温度稳定性提高

3.2.5显影液配比的改进

3.3本章小结

第4章实验分析

4.1曝光剂量精细控制法效果验证

4.1.1样品掩模的选取

4.1.2效果验证

4.2完整工艺验证

4.2.1试产设备及工艺参数

4.2.2首套掩模试产

4.2.3小批量掩模试产验证

4.3本章小结

第5章结论与展望

参考文献

攻读学位期间公开发表的论文

致谢