脉冲激光沉积PbSrTiO薄膜和（Pb,Sr）TiO/（Pb,La）TiO多层膜的介电性能及弛豫现象

文摘

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第一章引言

1.1铁电材料

1.1.1电介质基本理论

1.1.2铁电材料简介

1.2电介质在DRAM中的应用

1.3研究现状以及本文研究方向和意义

1.3.1钛酸锶铅的研究背景

1.3.2本论文的研究意义和内容

第二章薄膜制备与表征方法

2.1脉冲激光沉积法

2.1.1脉冲激光沉积过程及其特点

2.1.2脉冲激光沉积系统及沉积参数分析

2.1.2 PLD制备薄膜样品

2.2样品电极的制备

2.3薄膜性质的测试方法

第三章Pb0.5Sr0.5TiO3与Ba0.5Sr0.5TiO3、Pb0.5Ba0.5TiO3单层膜的比较和研究

3.1引言

3.2结果与讨论

3.2.1薄膜样品的结构表征

3.2.2薄膜的介电特性

3.2.3薄膜的漏电特性测试

3.2.4薄膜的铁电性

3.2.5薄膜温度特性的测试

3.3结论

第四章Pb0.5Sr0.5TiO3薄膜的介电弛豫现象

4.1引言

4.2结果与讨论

4.2.1薄膜样品的结构表征

4.2.2介电性能

4.2.3薄膜的温度谱及其弛豫特性

4.3结论

第五章PLD制备(Pb，Sr)TiO3/(Pb，La)TiO3多层膜的介电增强

5.1引言

5.2样品的制备

5.3结果与讨论

5.3.1薄膜样品的结构表征

5.3.2薄膜样品的介电性能

5.4结论

第六章总结

参考文献

硕士期间公开发表的论文

致谢