用离子源助镀法蒸镀TiO2薄膜研究

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第一章 绪论

1.1 TiO2的结构及其性质和应用

1.1.1 二氧化钛（TiO2）的晶体结构

1.1.2 TiO2的物化性质及应用

1.2 光学镀膜基础知识

1.2.1 真空的定义

1.2.2 真空系统真空度等级划分

1.2.3 真空泵抽气原理及工作范围

1.2.4 光学镀膜膜厚监控系统：分为光学监控、物理监控

1.2.6 常用材料基本性能

1.3 TiO2薄膜的制备方法

1.3.1 化学气相沉积(CVD)

1.3.2 喷雾热解法(Spray pyrolysis )

1.3.3 分子束外延(MBE)技术

1.3.4 磁控溅射(Magnetron sputtering)

1.3.5 原子层外延生长法(ALE)

1.4 论文的主要研究工作

第二章 光学膜系理论算法及影响因素研究

2.1光学膜系的理论算法

2.1.1 单层膜的反射率及其特征矩阵

2.1.2 多层膜的反射率及其特征矩阵

2.2工艺参数对膜层性能影响

2.2.1 基片温度

2.2.2 腔室真空度

2.2.3 蒸镀速率

2.2.4 氧气流量

第三章 实验及结论

3.1 引言

3.2 电子束蒸发离子束助镀法制备样品

3.2.1 实验仪器与主要膜料

3.3 样品制备过程

3.3.1 真空镀膜设备介绍

3.4 样品测试及实验结果

3.4.1 膜层反射率及折射率测量

3.4.2 扫描电子显微镜SEM及理论分析

3.4.3 蒸镀条件确定

第四章 结论与展望

4.1结论

4.2展望

第五章 致谢

参考文献