磁控溅射SiC/SiN薄膜用作减反射膜的研究与在线磁控溅射设备方案设计

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第一章绪论

1.1太阳能电池发展现状与未来发展趋势

1.2减反射薄膜的研究状况

1.3本论文研究内容

第二章基本理论知识

2.1太阳能电池介绍

2.1.1太阳电池基本原理

2.1.2太阳电池的分类及生产流程介绍

2.2减反射薄膜的特征

2.2.1减反射薄膜的原理

2.2.2减反射薄膜的制备方法

2.3磁控溅射镀膜技术

2.3.1磁控溅射镀膜基本原理

2.3.2实验用磁控溅射设备介绍

2.4薄膜表征测试技术

2.4.1台阶仪

2.4.2紫外-可见光分光光度计

2.4.3椭圆偏振光谱仪

2.4.4原子力显微镜(AFM)

2.4.5 X射线衍射分析(XRD)

第三章磁控溅射SiC／SiN薄膜特性的研究

3.1 SiC／SiN薄膜介绍

3.2 SiC／SiN薄膜的制备

3.2.1衬底处理

3.2.2薄膜制备

3.3 SiC／SiN薄膜性质比较

3.3.1 SiC／SiN薄膜表面形貌

3.3.2 SiC／SiN薄膜的结构

3.3.3 SiC／SiN薄膜反射率的比较

3.3.4 SiC／SiN薄膜透过率的比较

3.3.5 SiC／SiN薄膜折射率的比较

3.4本章小结

第四章在线连镀磁控溅射设备方案设计

4.1真空知识介绍

4.2工业用磁控溅射设备方案设计

4.3本章小结

第五章结论与展望

5.1取得的主要成果

5.2存在的问题与展望

参考文献

致谢

作者在攻读硕士学位期间公开发表的论文