光学表面亚表层损伤表征技术研究

文摘

英文文摘

1 绪论

1.1 课题研究背景和意义

1.2 国内外研究现状

1.2.1 破坏性检测方法

1.2.2 非破坏性检测方法

1.3 本课题研究的主要内容

2 亚表层损伤模型及产生机理

2.1 光学材料性能

2.2 光学加工工艺

2.3 亚表层损伤表现形式及检测方法

2.3.1 损伤表现形式

2.3.2 检测方法

2.4 本章小结

3 光学表面亚表层损伤检测系统介绍

3.1 激光扫描共聚焦显微系统成像特性分析

3.1.1 共聚焦显微系统的分辨能力

3.1.2 光束质量对激光共聚焦显微系统的影响

3.2 激光扫描共聚焦显微系统搭建和测试

3.2.1 一维扫描平台介绍

3.2.2 二维扫描平台

3.3 光学表面亚表层损伤二维测量及结果分析

3.3.1 表面粗糙度测量及分析

3.3.2 亚表层损伤深度测量及分析

3.4 本章小结

4 三维扫描实验构建及亚表层损伤测量

4.1 平面扫描系统

4.1.1 目标扫描方式

4.1.2 扫描振镜方式

4.1.3 Nipkow盘扫描方式

4.2 轴向扫描系统

4.2.1 利用不同波长扫描方式

4.2.2 压电陶瓷扫描方式

4.3 新型扫描系统

4.4 控制软件

4.5 三维扫描系统对光学表面亚表层损伤检测

4.5.1 断层信息的获得

4.5.2 图像处理

4.5.3 图像显示及分析

4.6 本章小结

5 实验验证

5.1 HF腐蚀石英玻璃的化学基础和原理

5.2 刻蚀时间与刻蚀速率、表面粗糙度的关系

5.2.1 刻蚀时间与刻蚀速率的关系

5.2.2 粗糙度和刻蚀时间的关系

5.3 刻蚀深度的测量

5.4 本章小结

6 结论

6.1 研究内容总结

6.2 展望

参考文献

攻读硕士期间发表论文

致谢