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激光清洗光学元件表面污染的机理与应用研究

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第一章 绪 论

1.1 研究工作的背景与意义

1.2 激光清洗国内外研究历史与现状

1.3 本论文的研究内容与结构安排

第二章 激光清洗光学元件表面污染物的理论基础

2.1 颗粒污染物与基片粘附力

2.2 干式激光清洗的原理及其理论模型

2.3 湿式激光清洗的原理及其理论模型

2.4 激光诱导等离子冲击波清洗的原理及其理论模型

2.5 本章小结

第三章 激光直接辐照清洗K9玻璃表面污染物

3.1 实验准备和操作

3.2 实验设备

3.3 355nm激光清洗K9表面灰尘和Al2O3颗粒

3.4 本章小结

第四章 激光诱导等离子体冲击波清洗K9玻璃表面污染物

4.1 实验操作

4.2 实验结果及分析

4.3 本章小结

第五章 射频等离子清洗K9玻璃表面污染物

5.1 等离子清洗的基本原理

5.2实验准备和操作

5.3 等离子清洗K9玻璃表面污染物

5.4本章小结

第六章 全文总结与展望

致谢

参考文献

攻读硕士学位期间取得的成果

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摘要

激光清洗技术是利用激光与物质通过直接或者间接的相互作用,将污染物从待清洗物体表面去除,来达到清洗的目的。激光清洗技术具有很多优势,它能够通过调节激光参数来清洗不同的污染物,适用范围广,且清洗效率高、无污染、成本低、能够清洗微米及亚微米的颗粒污染物。
  在大型高功率固体激光装置中,光学元件受到颗粒、油脂类污染物污染后,降低了光学元件的损伤阈值,严重影响激光最终输出通量,所以有必要对其表面的污染进行清洗。而传统的清洗技术很难将细小的颗粒污染物去除,本文针对光学元件的污染情况,选取K9玻璃表面污染物的清洗作为研究对象,进行了理论分析和实验研究,目的是找到最佳的清洗参数。通过激光干式清洗法、激光等离子体冲击波清洗法对K9玻璃表面的颗粒污染物进行了清洗,作为对比,本文还采用了射频等离子体清洗法对K9玻璃表面的颗粒和油脂类污染物进行清洗,采用光学显微镜、紫外-可见近红外分光光度计、图像分析软件、表面颗粒仪对其清洗效果进行了分析,主要研究内容和结论如下:
  (1)采用波长为355nm的脉冲激光对K9玻璃表面上的灰尘颗粒和Al2O3颗粒进行直接辐照清洗,并检测其清洗效果,分析了光斑面积、激光能量、作用发次对清洗效果的影响,获得了激光干式清洗K9玻璃表面灰尘污染物的最佳工艺参数为:光斑面积3.4 mm2,激光能量密度约为4.3 J/cm2,作用发次为5发。此参数清洗既有较好的清洗效果,又不会对K9玻璃基底产生损伤,且可以实现定点清洗,能够有效清除微米级甚至亚微米级污染物。
  (2)使用激光诱导等离子体冲击波法清洗 K9玻璃表面的灰尘颗粒,检测效果表明能取得较高的清洗效率,并获得清洗效率同作用距离、清洗发次的关系曲线,清洗效率和清洗面积随着距离的增大迅速减小,清洗效率随着发次的增加而增加。当激光聚焦点离待清洗物基底表面的距离为1.0mm、激光作用发次为10发次时,达到最佳的清洗效率。
  (3)进行射频等离子体清洗 K9玻璃表面二灰尘颗粒和机油污染物,分析了其清洗效果,并与激光清洗做了对比,在清洗颗粒物方面,其清洗效率不如后者,但是射频等离子体在清洗油脂污染时具有很好的效果,可为激光清洗做补充。

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