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水稻(Oryza sativa L.)若干重要性状的QTL主效应、上位性效应及GE互作效应分析

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第一章文献综述

1.1 QTL定位的常用遗传标记

1.1.1 RFLP标记

1.1.2 RAPD标记

1.1.3 SSR标记

1.1.4 AFLP标记

1.1.5 STS标记

1.1.6 SNP标记

1.2 QTL定位的常用作图群体

1.2.1 F2群体和BC群体

1.2.2 RIL群体

1.2.3 DH群体

1.2.4 NIL群体

1.3 QTL定位的统计分析方法

1.3.1单标记分析法

1.3.2区间作图法

1.3.3复合区间作图法

1.3.4混合线性模型法

1.3.5 QTL上位性效应分析法

1.3.6 QTL与环境互作效应分析法

1.4影响QTL定位的主要因素

1.4.1遗传图谱

1.4.2群体结构

1.4.3遗传背景

1.4.4性状遗传力

1.4.5统计方法及阀值

1.5水稻重要性状QTL定位研究进展

1.5.1产量性状

1.5.2品质性状

1.5.3抗逆性状

1.5.4其它农艺性状

1.6 QTL定位的育种应用

1.6.1新基因源的发掘

1.6.2 QTL图位克隆

1.6.3分子标记辅助选择育种

1.7本论文选题依据、研究内容及目的意义

1.7.1选题依据

1.7.2研究内容

1.7.3研究目的意义

参考文献

第二章水稻三个农艺性状的QTL与环境互作分析

2.1水稻分蘖松散度的QTL定位与环境互作效应分析

2.1.1材料与方法

2.1.2结果与分析

2.1.3讨论

2.2水稻落粒性QTL定位与环境互作效应分析

2.2.1材料与方法

2.2.2结果与分析

2.2.3讨论

2.3水稻柱头外露率QTL定位和上位性分析

2.3.1材料与方法

2.3.2结果与分析

2.3.3讨论

参考文献

第三章稻米三个品质性状的QTL与环境互作分析

3.1稻米透明度的QTL定位与环境互作效应分析

3.1.1材料与方法

3.1.2结果与分析

3.1.3讨论

3.2稻米延伸性的QTL定位与环境互作效应分析

3.2.1材料与方法

3.2.2结果与分析

3.2.3讨论

3.3稻米淀粉粘滞性的QTL定位与环境互作效应分析

3.3.1材料与方法

3.3.2结果与分析

3.3.3讨论

参考文献

第四章水稻耐辐射损伤和耐贮藏性的QTL定位和上位性分析

4.1水稻耐辐射损伤的QTL定位和上位性分析

4.1.1材料与方法

4.1.2结果与分析

4.1.3讨论

4.2水稻种子耐贮藏性的QTL定位和上位性分析

4.2.1材料与方法

4.2.2结果与分析

4.2.3讨论

参考文献

第五章稻苗耐高Mn++、高Al+++、高Cu++胁迫的QTL定位和上位性分析

5.1稻苗耐高Mn++胁迫的QTL定位和上位性分析

5.1.1材料与方法

5.1.2结果与分析

5.1.3讨论

5.2稻苗耐高Al+++胁迫的QTL定位和上位性分析

5.2.1材料与方法

5.2.2结果与分析

5.2.3讨论

5.3稻苗耐高Cu++胁迫的QTL定位和上位性分析

5.3.1材料与方法

5.3.2结果与分析

5.3.3讨论

参考文献

附录:攻读博士学位期间的研究成果

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摘要

该研究利用珍汕97B/密阳46和协青早B/密阳46所构建的两个RIL群体(简称ZM-RIL和XM-RIL)及其相应分子遗传图谱,通过设置多环境或多处理的遗传试验,应用可以同时检测QTL主效应、上位性效应和G×E互作效应的遗传分析方法,对涉及水稻农艺、品质、抗逆等11个重要性状进行QTL定位和GE分析,并对结果进行了分析和讨论,旨在从分子水平上更深入地了解其遗传本质.主要研究内容和结果如下:1、分蘖松散度:用XM-RIL及其遗传图谱,进行海南和杭州两地试验,以分蘖夹角为松散度(弧度)指标,对该性状的两个环境下表现数据进行联合分析.2、落粒性:用ZM-RIL群体及其遗传图谱,在海南和杭州两地试验,以稻穗下落法测到的落粒率(%)为指标,进行两地数据QTL联合分析.3、柱头外露率:用XM-RIL及其遗传图谱,在海南和杭州两地试验,以柱头外露率(%)的考察指标,进行有关QTL联合分析.4、稻米透明度:用ZM-RIL及其遗传图谱,在海南和杭州两地试验,以精米透光率(%)作为考察稻米透明度指标,进行有关QTL联合分析.5、稻米延伸性:用XM-RIL及其遗传图谱,在海南和杭州两地试验,以延伸率(%)作为米粒延伸性考察指标,进行有关QTL联合分析.6、稻米淀粉粘滞性:用ZM-RIL及其遗传图谱,经海南和杭州两地试验,以精米粉的RVA谱中5个参数特征值PKV、HPV、CPV、BDV和SBV作为研究稻米淀粉粘滞性的指标,进行有关QTL联合分析.7、耐辐射损伤:用ZM-RIL及其遗传图谱,经2个γ射线剂量(350Gy和550Gy)辐射处理,以处理后RIL群体的相对发芽率(%)和相对成苗率(%)作为考察该材料耐辐射损伤指标,进行QTL定位和上位性分析.8、种子耐贮藏性:用ZM-RIL及其遗传图谱,采用种子加速老化鉴定法,以处理后相对发芽率(%)作为该材料耐贮藏性的考察指标,分别对老化7d和14d后测得的数据进行QTL定位和上位性分析.共检测到2个主效应QTL与控制种子耐贮藏性有关.9、苗期耐高Mn<'++>胁迫:用ZM-RIL及其遗传图谱,对幼苗进行纸培法耐高Mn<'++>胁迫处理(Mn<'++>浓度设1OOmg/L和200mg/L),以处理20d后的幼苗相对根长(%)和相对苗高(%)作为耐Mn<'++>胁迫指标,用于QTL定位分析.10、苗期耐高Al<'+++>胁迫:用ZM-RIL及其遗传图谱,采用纸培法培养幼苗,并设置2个高Al<'+++>浓度(20mg/L和30mg/L)进行胁迫处理,以处理20d后的幼苗相对根长(%)和相对苗高(%)为耐Al<'+++>胁迫指标,用于QTL定位分析.11、苗期耐高Cu<'++>胁迫:用ZM-RIL及其遗传图谱,对幼苗采用沙培法培养,并设置2个高Cu<'++>浓度(100mg/L和200mg/L)进行胁迫处理,以处理20d后的幼苗相对根长(%)和相对苗高(%)作为耐Cu<'++>胁迫指标,用于QTL定位分析.

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