声明
1 绪论
1.1 太赫兹波技术的概述
1.2 太赫兹波调制技术的研究与进展
1.2.1 太赫兹波通信与调制技术
1.2.2 太赫兹波调制技术的分类
1.3 论文主要研究内容及创新点
1.3.1 论文主要研究内容及结构安排
1.3.2 论文主要创新点
2 基于铁电材料的太赫兹波调制的理论研究
2.1 铁电材料及其应用的概述
2.1.1 铁电材料的结构与特性
2.1.2 铁电材料的应用
2.2 铁电材料在太赫兹波段介电响应的理论研究
2.2.1 德拜(Debye)弛豫模型介电频谱
2.2.2 洛伦兹(Lorentz)阻尼谐振子模型介电频谱
2.3 铁电材料光调制理论研究
2.3.1 光生伏特效应
2.3.2 光折变效应
2.4 本章小结
3 基于锆钛酸铅、钛酸锶钡薄膜的太赫兹波光调制性能的研究
3.1 铁电薄膜的制备及表征方法
3.1.1 铁电薄膜的制备
3.1.2 表征方法
3.2 单层锆钛酸铅(PZT)超薄膜的太赫兹波光泵浦调制
3.2.1 单层PZT超薄膜的结构与表征
3.2.2 太赫兹波时域谱测量及数据提取
3.2.3 PZT超薄膜介电可调性与软模的分析
3.2.4 PZT超薄膜可调性与线性光电效应
3.2.5 PZT超薄膜的调制度与正切损耗角
3.3 Ba0.7Sr0.3TiO3/SrTiO3双层膜的太赫兹波光泵浦调制
3.3.1 薄膜材料结构表征和太赫兹波透过率的光调制
3.3.2 Ba0.7Sr0.3TiO3/SrTiO3双层膜的介电可调性与软模
3.3.3 Ba0.7Sr0.3TiO3/SrTiO3双层膜的光学性能可调性
3.3.4 Ba0.7Sr0.3TiO3/SrTiO3双层膜的铁电性
3.4 本章小结
4 基于退火温度对BST/PZT光子晶体的太赫兹波光调制性能的研究
4.1 样品的制备及表征方法
4.1.1 样品的制备
4.1.2 表征方法
4.2 不同退火温度对BST/PZT光子晶体的材料结构的影响
4.3 不同退火温度对BST/PZT光子晶体的光调制性能的影响与分析
4.4 本章小结
5 基于BST/PZT光子晶体的太赫兹波光电混合调制性能的研究
5.1 电极的选择和制备
5.2 基于BST/PZT光子晶体的光电混合调制的结果与分析
5.2.1基于532 nm光泵浦电偏压的调制结果与分析
5.2.2基于1064 nm光泵浦电偏压的调制结果与分析
5.3 本章小结
6 总结和展望
致谢
参考文献
附录1 攻读博士期间发表的论文
华中科技大学;