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【6h】

Ge材料MOSFET源漏欧姆接触电阻的研究

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第一章 绪论

1.1研究背景及相关理论

1.2国内外研究现状

1.3研究意义及研究内容

1.4论文结构安排

第二章 实验原理

2.1 SRIM仿真软件

2.2传输线模型

2.3淀积金属材料的方法

2.4本章小结

第三章 锗及锗锡材料的欧姆接触

3.1实验设计

3.2版图设计

3.3 SRIM仿真

3.4实验过程

3.5实验结果与分析

3.6本章小结

第四章 离子再注入实验

4.1研究背景

4.2实验设计

4.3 实验过程

4.4实验结果与分析

4.5本章小结

第五章 总结与展望

参考文献

致谢

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