高温氧化多晶金刚石膜结构及浸润性研究

声明

第一章绪论

1.1 金刚石的结构

1.2 金刚石的性质与应用

1.3 人工合成金刚石方法和机理

1.3.1 高温高压法合成金刚石

1.3.2 化学气相沉积法（CVD）合成金刚石

1.4 CVD金刚石制备方法

1.4.1 微波等离子体化学气相沉积法（MPCVD）

1.4.2 热丝等离子体化学气相沉积法（HFCVD）

1.4.3 直流电弧等离子体喷射 CVD法

1.5 多晶金刚石膜的结构及表面修饰

1.5.1 金刚石膜微晶结构生长和热氧化处理

1.5.2 金刚石膜表面修饰

1.6 金刚石的表面浸润性

1.6.1 浸润性相关概念简介

1.6.2 金刚石浸润性的研究和应用

1.7 论文的选题及主要内容

参考文献

第二章实验设备介绍与表征技术

2.1 微波等离子体CVD装置

2.2 高温管式炉

2.3 样品表征设备

2.3.1 光学显微镜

2.3.2 扫描电子显微镜

2.3.3 X射线衍射仪

2.3.4 激光拉曼光谱仪

2.3.5 热重分析仪

2.3.6 接触角测量仪

参考文献

第三章 （100）织构多晶金刚石膜的制备与高温氧化处理

3.1 引言

3.2 （100）织构 CVD多晶金刚石膜的制备过程

3.2.1 制备（100）织构多晶膜前的预处理

3.2.2 （100）织构多晶膜的沉积条件

3.2.3 （100）织构 CVD多晶金刚石膜高温氧化处理后的二次生长

3.3 （100）织构自支撑膜的高温氧化处理

3.4 样品表征

3.5 实验结果分析

3.5.1 （100）织构多晶金刚石膜的 TGA热重分析

3.5.2 （100）织构多晶金刚石膜的表征

3.5.3 高温氧化处理后（100）织构多晶金刚石膜的表征

3.5.4 二次生长（100）织构多晶金刚石膜的表征

3.6 本章小结

参考文献

第四章 （100）织构多晶金刚石薄膜的浸润性及表面能研究

4.1 引言

4.2 多晶金刚石膜的氢化和氧化处理

4.2.1 表面氢终端处理

4.2.2 表面氧终端处理

4.3 多晶金刚石膜的浸润性研究

4.4 多晶金刚石膜表面能的估算

4.5 本章小结

参考文献

第五章总结与展望

作者简历及科研成果

致谢