X--CT用Gd2O2S:Pr,Ce,F闪烁陶瓷的制备与性能研究

声明

第一章 绪论

1.1 无机闪烁体

1.1.1 无机闪烁体材料发展历程

1.1.2 闪烁过程物理机理

1.2 医学CT用无机闪烁体

1.1.2 X-CT成像原理

1.2.2 医学CT用闪烁材料性能指标

1.2.3 CT医用闪烁材料研究现状

1.3 GOS陶瓷闪烁体的研究

1.3.1 GOS闪烁体国内及国外研究现状

1.3.2 GOS粉体制备方法及烧结工艺

1.4 课题提出与研究内容

第二章 实验原料、设备及测试表征

2.1 实验原料及试剂

2.2 实验设备

2.3 测试表征方法

第三章 助熔剂法合成Gd2O2S:Pr(Ce)粉体及陶瓷制备

3.1 引言

3.2 助熔剂法制备Gd2O2S:Pr(Ce)粉体

3.2.1 实验流程

3.2.2 助熔剂法中不同S用量的反应机理

3.2.3 不同S用量对Gd2O2S:Pr粉体性能的影响

3.2.4 不同煅烧温度对Gd2O2S:Pr粉体形貌和性能的影响

3.3 真空烧结结合HIP后处理制备Gd2O2S:Pr闪烁陶瓷

3.4 热压烧结Gd2O2S:Pr,Ce闪烁陶瓷

3.5 本章小结

第四章 液相法合成Gd2O2S:Pr(Ce,F)纳米粉体及陶瓷制备

4.1 引言

4.2 液相法制备Gd2O2S:Pr(Ce)纳米粉体

4.2.1 实验流程

4.2.2 不同煅烧温度对Gd2O2S:Pr粉体物相、形貌和性能的影响

4.2.3 真空烧结结合HIP后处理制备Gd2O2S:Pr闪烁陶瓷

4.3 真空预烧及HIP后处理对陶瓷微观结构和性能的影响

4.3.1 不同预烧温度对Gd2O2S:Pr(Ce,F)陶瓷致密度及微观结构的影响

4.3.2 HIP后处理对Gd2O2S:Pr(Ce,F)陶瓷微观结构及闪烁性能的影响

4.4 本章小结

第五章 全文总结与展望

参考文献

致谢

攻读硕士期间发表的学术论文与科研成果