声明
第一章 文献综述
1.1 HfO2基薄膜在微电子领域的应用与发展前景
1.2 HfO2基铁电薄膜的性质及研究现状
1.3 HfO2基薄膜相变的影响因素
1.4 二氧化铪基薄膜的制备方法
1.5 本论文的研究内容及目的
第二章 实验部分
2.1 实验试剂和仪器
2.2 钙掺杂二氧化铪溶胶前驱体的制备
2.3 MIS结构薄膜电容器的制备
2.4 测试分析仪器与方法
第三章 Ca:HfO2薄膜退火温度的选择
3.1 5 mol%钙掺杂二氧化铪干凝胶的热分析
3.2 退火温度对Ca:HfO2薄膜相结构的影响
3.3 不同退火温度Ca:HfO2薄膜的XRR拟合分析
3.4 不同退火温度下Ca:HfO2薄膜的漏电流测试
3.5 本章小结
第四章 掺杂浓度对Ca:HfO2薄膜性能的影响
4.1 Ca掺杂浓度对HfO2薄膜晶体结构的影响
4.2 Ca:HfO2薄膜的成分分析
4.3 Ca:HfO2薄膜的微观形貌表征
4.4 Ca:HfO2薄膜的电学性能表征
4.5 本章小结
第五章 膜厚对Ca:HfO2薄膜相变及性能的影响
5.1 不同膜厚Ca:HfO2薄膜的XRR测试
5.2 薄膜厚度对Ca:HfO2薄膜晶体结构的影响
5.3 薄膜厚度对Ca:HfO2薄膜电学性能的影响
5.4 本章小结
结论
参考文献
攻读硕士学位期间发表学术论文情况
致谢
大连理工大学;
