基于DMD多重曝光系统的液晶光学相位调制器件的研究

声明

第1 章 绪 论

1.1 液晶与液晶取向技术

1.1.1 液晶简介

1.1.2 液晶取向技术

1.2 DMD多重曝光系统

1.2.1 掩模曝光光刻技术

1.2.2 无掩膜曝光光刻技术

1.3 Pancharatnam?Berry 相位

1.4 本论文的主要研究内容

第2 章 单一相位结构的液晶光相位调制器件

2.1 液晶偏振光栅

2.1.1 液晶偏振光栅的基本原理

2.1.2 液晶偏振光栅的制备

2.1.3 液晶偏振光栅的测试

2.2 液晶涡旋 q 板

2.2.1 涡旋光束的基本原理

2.2.2 涡旋光束的产生方法

2.2.3 液晶涡旋 q 板的制备与测试

2.3 液晶艾里立方相位板

2.3.1 艾里光束的基本原理

2.3.2 艾里光束的产生方法

2.3.3 液晶艾里立方相位板的制备与测试

2.4 液晶艾里对称立方相位板

2.4.1 对称艾里光束的基本原理

2.4.2 对称艾里光束的产生方法

2.4.3 液晶艾里对称立方相位板的制备与测试

2.5 本章小结

第3 章 复合相位结构的液晶光相位调制器件

3.1 液晶叉形偏振光栅

3.1.1 液晶叉形偏振光栅的简介

3.1.2 液晶叉形偏振光栅的制备与测试

3.2 液晶涡旋艾里立方相位板

3.2.1 液晶涡旋艾里立方相位板的简介

3.2.2 液晶涡旋艾里立方相位板的制备与测试

3.3 液晶涡旋艾里对称立方相位板

3.3.1 液晶涡旋艾里对称立方相位板的简介

3.3.2 液晶涡旋艾里对称立方相位板的制备与测试

3.4 本章小结

第4 章 总结与展望

4.1 总结

4.2 展望

参考文献

附录A 攻读学位期间发表的论文

致 谢