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基于SON工艺的高性能压阻式压力传感器研究和开发

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第一章 绪论

1.1 MEMS压力传感器发展史

1.2 MEMS压力传感器市场与应用

1.3论文框架与主要工作

第二章 SON工艺的背景与理论

2.1 SON工艺发展

2.2 ESS工艺原理

2.3干法刻蚀

2.4 硅迁移

2.5外延工艺

2.6本章小结

第三章 SON工艺开发与优化

3.1 版图设计

3.2 深槽工艺开发

3.3 本章小结

第四章MEMS压阻式压力传感器设计、制造与测试

4.1 硅的压阻特性

4.2 弹性膜的应力计算与仿真

4.3 压力传感器芯片设计

4.4 SON工艺平台压阻式压力传感器开发

4.5 基于SON工艺压力传感器封装和测试

4.6 本章小结

第五章 总结和展望

5.1 工作总结

5.2 工作展望

参考文献

在学期间学术成果

致谢

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著录项

  • 作者

    苏佳乐;

  • 作者单位

    东南大学;

  • 授予单位 东南大学;
  • 学科 微电子学与固体电子学
  • 授予学位 博士
  • 导师姓名 黄庆安,李伟华,周再发,苏巍;
  • 年度 2019
  • 页码
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类
  • 关键词

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