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Ion implantation damage in silicon dioxide studied with positron annihilation spectroscopy.

机译:用正电子an没光谱研究了二氧化硅中的离子注入损伤。

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摘要

hermally grown SiO;In insulating materials such as SiO;Analysis of the measured defect profiles, and comparison with TRIM Monte Carlo simulations, allows us to deduce the relative contributions of the nuclear and electronic stopping to the radiation damage, which was nearly constant as a function of depth. It was found that 22% of the predicted vacancies remained after the recombination of defects and that the energy necessary to produce defects by ionization was
机译:热增长的SiO;在SiO等绝缘材料中;对测得的缺陷轮廓的分析以及与TRIM蒙特卡洛模拟的比较,使我们可以推断出核和电子停止对辐射损伤的相对贡献,该常数几乎恒定深度功能。发现缺陷重组后仍保留了22%的预计空位,并且通过电离产生缺陷所需的能量为

著录项

  • 作者

    Spooner, Marc.;

  • 作者单位

    The University of Western Ontario (Canada).;

  • 授予单位 The University of Western Ontario (Canada).;
  • 学科 Physics Radiation.
  • 学位 M.Sc.
  • 年度 1998
  • 页码 51 p.
  • 总页数 51
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

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