University of Arkansas;
机译:PECVD与氨基硅烷前体的三(二甲基氨基)硅烷一起沉积的氮化硅膜的制备和性能
机译:使用神经网络模拟通过使用PECVD沉积的氮化硅膜的载流子寿命
机译:沉积退火对脉冲激光沉积La0.5GD1.5SiO5掺杂DY3 +薄膜的结构,形态和发光性能的影响
机译:A-Si:H薄膜膜的退火处理及其性能
机译:氢在PECVD沉积的氮化硅薄膜中的重新分布。
机译:使用W用六烷烃与不同气体沉积的退火WC / C PECVD涂层的微观结构和力学性能
机译:退火对D.C.和脉冲PECVD沉积的a-Si:H薄膜的电光性能的影响