超高产水稻培矮64S/E32及其亲本叶片的光氧化特性和遗传特点

欧志英; 彭长连; 林桂珠

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通过外源甲基紫精(MV)光氧化处理(200 μmol/L MV,PPFD 2 000 μmol*m-2*s-1,1 h)研究超高产杂交水稻培矮64S/E32及其父本(E32)、母本(培矮64S)叶片的耐光氧化性及其生理机理.与只照强光的对照相比,光氧化导致电解质渗漏率增加,膜脂过氧化加剧,降低PSⅡ活性(Fv/Fm、ΦPSⅡ)及叶绿素荧光猝灭(qP,NPQ),增加抗光氧化保护酶(SOD,APX)的活性,高产杂交水稻培矮64S/E32的这些参数的变化表现出杂种优势(中亲或超亲优势),且偏向于母本.结果表明相对于含有粳稻成分的母本和高产子代而言,籼稻父本是光氧化敏感型,而子代超高产水稻耐光氧化的特性主要受含粳稻成分的籼稻母本的遗传控制.后者的耐光氧化特性在于在光氧化条件下光合膜和PSⅡ功能的相对稳定及较高的抗氧化保护酶活性而增强的活性氧消除能力.提出杂交水稻育种应选择耐光氧化的母本作为超高产水稻育种材料.

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来源
《作物学报》 |2004年第4期|308-314|共7页
作者
欧志英; 彭长连; 林桂珠;
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作者单位

中国科学院华南植物研究所,广东广州510650;

中国科学院华南植物研究所,广东广州510650;

中国科学院华南植物研究所,广东广州510650;

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正文语种 chi
中图分类稻;
关键词
超高产水稻; 杂交优势; 甲基紫精; 耐光氧化性; 抗氧化酶; 叶绿素荧光;

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