取代基对4-N,N-二苯胺基均二苯乙烯类电致发光材料光电特性的影响

陈安尚; 李亚明; 张华

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用紫外吸收光谱、荧光发射光谱、循环伏安法(CV)、微分脉冲伏安法(DPV)等手段研究了4个4-N,N-二苯胺基均二苯乙烯类化合物的光电性能,计算出它们的电离势(PI)在5.70～5.90 eV,带隙值(Eg)在2.78～2.88 eV,分析了电化学行为,讨论了取代基对吸收光谱、发射光谱和电子结构的影响.结果表明,引入供电子基团OCH3后,分子氧化电位降低,HOMO能量升高,电离势降低;引入吸电子基团-Cl后,氧化电位升高,LUMO能量降低,电子亲和势增加.取代基-C1和-OCH3都使化合物的带隙(Eg)减小,紫外-可见光谱的吸收峰和荧光光谱的发射峰均发生红移.

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来源
《化学学报》 |2005年第6期|460-464|共5页
作者
陈安尚; 李亚明; 张华;
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作者单位

大连理工大学精细化工国家重点实验室;

大连;

116012;

大连理工大学精细化工国家重点实验室;

大连;

116012;

大连理工大学精细化工国家重点实验室;

大连;

116012;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 O621.13;
关键词
三芳胺; 电致发光; 空穴传输; 取代基;

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