电结晶铜/钴纳米多层膜结构与磁性能研究

曹为民; 胡滢; 印仁和; 石新红; 曾绍海

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电结晶铜/钴纳米多层膜结构与磁性能研究

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以n型Si(111)为基底,在硼酸镀液体系中采用双槽法电结晶制备Cu/Co纳米多层膜,确定了工艺条件.用扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)对纳米多层膜的结构和形貌进行了表征,显示多层膜具有良好周期性和超晶格结构.并用物性测量系统PPMS测试了不同结构Cu/Co纳米多层膜的磁性能.磁滞回线表明:不同周期数的纳米多层膜其矫顽力均较小.巨磁阻(GMR)性能与纳米多层膜结构有关.GMR值随Co磁性层厚度增长先增大后减小,有一极值;随着Cu非磁性层厚度的增加GMR值发生周期性的振荡;随周期数N的增大,GMR值先增大,在N为60时达到了90%,随着N的继续增加而减小,当达到80周期时,GMR值趋于稳定.

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来源
《化学学报》 |2006年第1期|32-36|共5页
作者
曹为民; 胡滢; 印仁和; 石新红; 曾绍海;
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作者单位

上海大学理学院化学系;

上海;

200444;

上海大学理学院化学系;

上海;

200444;

上海大学理学院化学系;

上海;

200444;

上海大学理学院化学系;

上海;

200444;

上海大学理学院化学系;

上海;

200444;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类化学;
关键词
电结晶; Cu/Co纳米多层膜; X射线衍射; 巨磁阻效应; 磁滞回线;

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