多孔硅于甲酸-甲酸钠溶液阳极偏压下的电致发光研究

张占军; 李经建; 武斌; 刘忠范; 蔡生民

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多孔硅于甲酸-甲酸钠溶液阳极偏压下的电致发光研究

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用荧光分光光度法现场监测了多孔硅于甲酸-甲酸钠溶液阳极偏压下的电致发光行为发现该体系的电致发光峰值随着阳极偏压增大而发生蓝移;发光峰能量值与阳极偏压呈良好的线性关系,其斜率与多孔硅在阴极偏压下电致发光的结果一致.扫描探针技术研究表明:多孔硅的表面形貌明显地影响其发光性质.提出了多孔硅在甲酸-甲酸钠溶液中阳极偏压下的电致发光与多孔硅表面的Si-H键的氧化作用有关的发光机理发现了多孔硅于甲酸-甲酸钠溶液中在阳极偏压下电压调制的可见光发射行为,并用量子限制效应对该现象进行了解释

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来源
《化学学报》 |2001年第10期|1587-1591|共5页
作者
张占军; 李经建; 武斌; 刘忠范; 蔡生民;
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作者单位

北京大学化学与分子工程学院;

北京大学化学与分子工程学院;

北京大学化学与分子工程学院;

北京大学化学与分子工程学院;

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正文语种 chi
中图分类化学;
关键词
多孔硅; 电致发光; 甲酸-甲酸钠; 电势偏压; 电压调制; 量子限制效应;

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