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纳米羟基磷灰石的表面修饰及其与DNA结合的实验研究

         

摘要

目的 探讨纳米羟基磷灰石(nHAP)的表面修饰及其与DNA结合的可行性.方法 采用均相沉淀法制备nHAP;透射电镜观察纳米粒结构;经超声分散及碳酸钠预处理后,在pH值7.4的环境下应用多聚赖氨酸(PLL)修饰nHAP;对修饰前后的纳米粒行Zeta电位检测;采用离心后测上清DNA浓度检测PLL修饰后的nHAP(nHAP-PLL)结合DNA的能力;应用DNA抗核酸酶保护实验测定nHAP-PLL保护DNA的能力.结果 透射电镜下nHAP呈针状颗粒,粒径较均匀,约(15~20)nm×(60~80)nm左右,分散程度良好;nHAP的Zeta电位为(-42.4±7.5)mV,nHAP-PLL的Zeta电位为(8.5±1.5)mV,两组比较差异有统计学意义(P<0.01);DNA结合及抗核酸酶保护实验显示nHAP-PLL和DNA质量比达20:1时,nHAP-PLL可有效结合并保护相应DNA.结论 nHAP经PLL表面修饰后可成为一种有效的DNA结合载体.

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