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一种集成电路关键尺寸的测量方法

         

摘要

为了研究集成电路纳米级线结构的特征尺寸,提出一种基于自动调焦激光传感器的集成电路关键尺寸的测量方法.用一维精密位移台(X轴)、激光自聚焦传感器(Z轴)搭建了测量平台,以集成电路板为被测样板,将样板固定在位移台上沿X轴运动,激光传感器垂直对样板表面的一条刻线的轮廓进行自动聚焦扫描,同时采集X、Z轴数据,并建立数学模型.利用最小二乘方法对实验数据进行分段直线拟合,最终得到线宽、线高等参数结果.同时还设计了纳米级接触式传感器为Z轴的测量平台进行比对实验,对同一刻线轮廓进行数据采集,并使用相同数学建模方法得到测量结果.最后通过对2种方法测量数据的比对分析,验证方法的可行性和准确性.

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