Ti离子注入和退火对ZnS薄膜结构和光学性质的影响

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• 来源
  《物理学报》 |2009年第10期|7108-7113|共6页
• 作者

  苏海桥; 薛书文; 陈猛; 李志杰; 袁兆林; 付玉军; 祖小涛;

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• 作者单位

  电子科技大学应用物理系,成都,610054;

  湛江师范学院物理系,湛江,524048;

  电子科技大学应用物理系,成都,610054;

  电子科技大学应用物理系,成都,610054;

  电子科技大学应用物理系,成都,610054;

  兰州大学物理科学与技术学院,兰州,730000;

  电子科技大学应用物理系,成都,610054;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 物理学;
• 关键词

  ZnS薄膜; 离子注入; X射线衍射; 光致发光;