CO和NO在Rh—V／SiO2上吸附的红外光谱研究

李新生; 李峻

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CO和NO在Rh—V／SiO2上吸附的红外光谱研究

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应用原位红外光谱研究了ＣＯ和ＮＯ在还原态Ｒｈ／ＳｉＯ２，Ｒｈ－Ｖ／ＳｉＯ２催化剂上的化学吸附。５７３Ｋ氢还原后，Ｒｈ／ＳｉＯ２上的部分Ｒｈ中心处于Ｒｈ＾０和Ｒｈ＾δ＋（δ≤１）两种状态。加入助剂Ｖ后，Ｒｈ与Ｖ之间发生了某种化学作用，这种作用有利于Ｒｈ金属向钒离子转移电子生成Ｒｈ＾δ＋中心。由ＣＯ和ＮＯ共吸附结果可得：ＮＯ对ＣＯ吸附具有两种影响，一是取代ＣＯ，二是使Ｒｈ＾０中心部分氧化生成Ｒｈ＾δ＋

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来源
《物理化学学报》 |1994年第11期|1009-1014|共6页
作者
李新生; 李峻;
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作者单位

不详;

不详;

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类 O643.361;
关键词
一氧化碳; 一氧化氮; 吸附; 红外光谱;

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