ADI公司发布创新的制造工艺并且推出一批适合工业应用的高电压模拟IC——iCMOS^(TM)创新制造工艺使模拟IC显著提高性能并且承受30V电源电压

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• 来源
  《电子技术应用》 |2005年第1期|39-39|共1页
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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 线性集成电路、模拟集成电路;电子工业;
• 关键词

  ADI公司; CMOS; 模拟IC; 半导体工艺; 美国模拟器件公司; 半导体制造工艺; 电源电压; 北京; 纽约证券交易所; 创新;