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TOK:加大研发力度,积极开拓光刻胶市场

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为实现45纳米光刻技术．浸没式光刻几乎是近年来被业界最频繁提及的光键词了．随着浸没式光刻应用于在45nm技术尘埃落定后．同时也可能延伸到32nm．与之相辅的新材料的开发也步入了白热化的阶段．光刻胶作为光刻材料的主力，更是如此。

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来源
《集成电路应用》 |2007年第3期|27-27|共1页
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正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;
关键词
光刻胶; 纳米光刻技术; 力度; 研发; 市场; 光刻材料; 浸没式; 新材料;

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