氢气掺杂对低温沉积ITO性能的影响

金扬利; 伏开虎; 陈玮; 祖成奎

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氢气掺杂对低温沉积ITO性能的影响

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摘要

低温沉积具有优异光电性能的ITO一直是道难题。本文采用掺杂H_(2)的方式,利用磁控溅射设备室温制备了ITO导电膜,并通过分光光度计、四探针测试仪、台阶仪等对样品进行表征,研究了不同H_(2)掺杂量对薄膜光学、电学、附着力的影响。结果表明,适量的H_(2)掺杂可以在保证较高透过率的基础上,降低薄膜的电阻率,同时,增加膜层的附着力,可以获得透光度75.1%、方块电阻12欧姆、电阻率6.3×10^(-4)Ω·cm的膜层。

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来源
《建筑玻璃与工业玻璃》 |2021年第3期|P.7-9|共3页
作者
金扬利; 伏开虎; 陈玮; 祖成奎;
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作者单位

中国建筑材料科学研究总院有限公司建材行业特种玻璃制备与加工重点实验室北京100024;

中国建筑材料科学研究总院有限公司建材行业特种玻璃制备与加工重点实验室北京100024;

中国建筑材料科学研究总院有限公司建材行业特种玻璃制备与加工重点实验室北京100024;

中国建筑材料科学研究总院有限公司建材行业特种玻璃制备与加工重点实验室北京100024;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类固体物理学;
关键词
薄膜光学; 磁控溅射; 低温沉积; 方块电阻; 分光光度计; 透光度; 附着力; 高透过率;

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