邻菲啰啉-H_2O_2-Sn(Ⅳ)化学发光体系的研究

李焕; 于振安

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邻菲啰啉-H_2O_2-Sn(Ⅳ)化学发光体系的研究

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测定痕量锡可采用分光光度法、荧光分析法等。目前,高灵敏度的化学发光分析法已用于多种金属离子的分析,但是,锡的化学发光分析尚未见报道。本文采用的反相流动注射化学发光分析(rFIA-CL)法是以试样作载流,定量注入试剂到试液流中的一种分析新技术。rFIA法能在一定程度上克服基线漂移,提高分析灵敏度,减少试剂消耗,且重现性好。我们观察到邻菲啰啉(phen)在碱性介质中被H_2O_2氧化时有较强的化学发光,痕量Sn(Ⅳ)

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来源
《高等学校化学学报》 |1993年第8期|1076-1078|共3页
作者
李焕; 于振安;
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作者单位

东北工学院化学系;

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正文语种 chi
中图分类 O614.432;
关键词
化学发光; 邻菲罗啉; 锡;

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