Fe_(3)O_(4)@SiO_(2)@CTS镍离子印迹聚合物的制备与吸附性能研究

傅明连; 高果; 陈彰旭; 朱丹琛

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以Fe_(3)O_(4)@SiO_(2)为磁核,在其表面包裹壳聚糖,再通过分子印迹技术,制得Fe_(3)O_(4)@SiO_(2)@CTS镍离子印迹聚合物。采用XRD、FTIR和SEM对镍离子印迹聚合物的结构和形貌进行表征。通过正交实验确定了镍离子印迹聚合物对Ni^(2+)的最佳吸附条件为:Ni^(2+)初始浓度为80 mg·L^(-1)、印迹聚合物用量为25 mg、pH值为5.0、吸附时间为3 h,印迹聚合物对Ni^(2+)的吸附量可达66.73 mg·g^(-1)。Fe_(3)O_(4)@SiO_(2)@CTS镍离子印迹聚合物对Ni^(2+)的吸附符合拟二级动力学方程,吸附过程符合Freundlich等温吸附模型。

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来源
《化学研究与应用》 |2023年第3期|614-619|共6页
作者
傅明连; 高果; 陈彰旭; 朱丹琛;
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作者单位

莆田学院环境与生物工程学院;

福建省新型污染物生态毒理效应与控制重点实验室;

福建省高校生态环境及其信息图谱重点实验室;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 O614.813;
关键词
Fe_(3)O_(4)@SiO_(2); 镍离子; 印迹聚合物; 吸附性能;

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