HPMA/OMMT和HPMA/CPMI/OMMT纳米复合材料的制备与表征

李纯清; 黎华明; 刘朋生

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HPMA/OMMT和HPMA/CPMI/OMMT纳米复合材料的制备与表征

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通过甲基丙烯酸羟丙酯(HPMA)单体与N-(4-羧基苯基)马来酰亚胺(CPMI)单体在有机蒙脱土(OMMT)中经原位插层自由基聚合反应制备了聚合物-无机纳米复合材料.OMMT由钠基蒙脱土通过十六烷基溴化铵插层处理制备.通过XRD和TEM对复合材料结构进行了表征,证实HPMA单体和HPMA/CPMI共单体在OMMT中原位插层共聚得到的复合材料均为剥离型纳米复合材料.OMMT含量为3 wt%的PolyHPMA/OMMT纳米复合材料起始分解温度为250℃,比相应的纯聚合物的热分解温度提高30℃.随着OMMT含量的增加,热分解温度进一步提高.但在测试温度范围内,PolyHPMA/OMMT纳米复合材料均没有出现明显的玻璃化转变温度.

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来源
《化学研究与应用》 |2009年第3期|317-321|共5页
作者
李纯清; 黎华明; 刘朋生;
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作者单位

绍兴文理学院化学化工学院,浙江绍兴,3120002.湘潭大学化学学院,湖南湘潭,411105;

绍兴文理学院化学化工学院,浙江绍兴,3120002.湘潭大学化学学院,湖南湘潭,411105;

绍兴文理学院化学化工学院,浙江绍兴,3120002.湘潭大学化学学院,湖南湘潭,411105;

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正文语种 chi
中图分类不饱和酸的酯类聚合物;
关键词
甲基丙烯酸羟丙酯; N-(4-羧基苯基)马来酰亚胺; 蒙脱土; 纳米复合材料;

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