TSMC认证Mentor Graphics软件可应用于TSMC 10nm FinFET技术早期设计开发

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Mentor Graphics公司目前宣布，TSMC和Mentor Graphics已经达到在10nmEDA认证合作的第一个里程碑。Calibre实体验证和可制造性设计（DFM）平台以及Analog FastSPICE^TM（AFS^TM）电路验证平台（包括AFSMega）已由TSMC依据最新版本的10nm设计规则和SPICE模型认证。经TSMC验证的Olympus-SOC^TM数字设计平台已依据10nm工艺要求补强新工具功能，同时，全芯片等级的认证工作也正进行中。

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来源
《中国集成电路》 |2015年第5期|35-35|共1页
作者

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作者单位

Mentor;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类制造工艺;
关键词
Graphics; 可制造性设计; TSMC; 认证工作; FinFET; SPICE模型; 验证平台; 应用;

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