真空热处理对NiCoCrAlTaY涂层／Ti62421S钛合金界面组织结构及元素扩散行为的影响

江泽敏; 夏长清; 彭小敏; 戚延龄; 曾令喜

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采用电弧离子镀（AII））技术在Ti62421s钛合金基体表面沉积NiCoCrAlTaY涂层。通过XRD、SEM与EDS能谱分析研究了不同真空热处理制度下NiCoCrAlTaY涂层／Ti62421s基体界面显微组织的变化和元素扩散行为。结果表明：沉积态的涂层主要由Cr2Ni3相、Al4Ni15Ta相和NiCoCr相组成。从750℃开始，NCoCrAlTaY涂层和钛合金基体有明显的界面反应，850℃真空热处理后界面出现明显的分层，析出Ni3（A1，Ti）、Ti（Ni，Co）和Ti2（Ni，Co）相；随着温度的升高，界面分层并加厚，同时出现kirkendall空位带，导致涂层退化。经950℃退火后涂层剥落，只有TiCr4相。650℃／3h、750℃／3h真空热处理过程中，涂层／基体界面发生Ni、Co、Ti元素互扩散，涂层中Ta和cr元素基本未向基体扩散。

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来源
《中国材料科技与设备》 |2013年第1期|P.53-55|共3页
作者
江泽敏; 夏长清; 彭小敏; 戚延龄; 曾令喜;
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作者单位

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正文语种 CHI
中图分类薄膜技术;
关键词
NiCoCrAlTaY涂层; 真空热处理; 扩散行为;

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