非晶态三氧化钼薄膜超低温制备及其电致变色特性研究

张金伟; 刁训刚; 王怀义; 王天民; 武哲; 舒远杰

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非晶态三氧化钼薄膜超低温制备及其电致变色特性研究

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在基片温度173 K的条件下,采用直流反应磁控溅射法制备MoO3薄膜.运用XRD、SEM、可见分光光度计、伏安特征曲线、拉曼光谱研究分别对薄膜的晶体结构、微观表面形貌、透射光谱特性、电致变色性能及成分进行分析,探讨了MoO3薄膜的电致变色性能和微观结构之间的关系.结果表明,超低温有利于MoO3薄膜非晶化,薄膜表面有较多的孔隙,有利于Li+的抽取,进而显示出很好的变色性能,在550 nm处着色系数达到了41.6 cm2/c,可见光400～800 nm范围内着色态和漂白态平均透光率差值达60%以上.Raman光谱分析发现,在拉曼位移831cm-1、952 cm-1处有强的吸收峰,其中831 cm-1处对应于O-Mo6+-O的伸缩振动模式,952 cm-1对应于Mo6+=O的弯曲振动模式.

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来源
《中国钼业》 |2007年第6期|33-36|共4页
作者
张金伟; 刁训刚; 王怀义; 王天民; 武哲; 舒远杰;
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作者单位

北京航空航天大学理学院,北京,100083;

北京航空航天大学理学院,北京,100083;

北京航空航天大学理学院,北京,100083;

北京航空航天大学理学院,北京,100083;

北京航空航天大学航空科学与技术学院,北京,100083;

中国工程物理研究院化工材料研究所,四川,绵阳,621900;

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正文语种 chi
中图分类功能材料;
关键词
薄膜光学; 电致变色; 超低温; 三氧化钼; 非晶态;

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